简述关于离子镀弧源在镀膜的磁场的作用是什么呢？

　针对几种应用于工具镀膜的磁场控制的电弧离子镀弧源，分析了其结构、工作原理以及弧斑运动、放电特性；比较了不同磁场辅助受控弧源的靶结构及磁场位形，并讨论了对弧斑运动、放电及镀膜工艺的影响；对磁场控制的电弧离子镀弧源的发展进行了展望。

　　提高工具、模具的加工质量和使用寿命一直是人们不断探索的课题。电弧离子镀技术是一种工模具材料表面改性技术，具有离化率高、可低温沉积、膜层质量好以及沉积速率快等其他镀膜方式所不具备的优势，已在现代工具以及各种模具的表面防护取得了理想的应用效果。但是，电弧放电导致的大颗粒存在限制了工模具涂层技术的进一步应用，也成为后期电弧离子镀技术发展的主要论题。

　　离子镀弧源是电弧等离子体放电的源头，是离子镀技术的关键部件。电弧离子镀采用的弧源是冷阴极弧源，这种弧源中电弧的行为被阴极表面许多快速游动、高度明亮的阴极斑点所控制。在发展和完善电弧离子镀技术的过程中，对电弧阴极斑点运动的有效控制至关重要，因为这决定了电弧放电的稳定性、阴极靶材的有效利用、大颗粒的去除、薄膜质量的改善等诸多关键问题的解决。国内外一直致力于这方面的工作，研究热点主要集中在磁场控制的弧源设计上。由于真空电弧的物理特性，外加电磁场是控制弧斑运动的有效方法，目前所有的磁场设计都是考虑在靶面形成一定的磁场位形，利用锐角法则限制弧斑的运动轨迹，利用横向分量提高弧斑的运动速度。

　　理想的磁场设计体现为：一方面尽可能扩大磁场横向分量的面积与强度，另一方面樶大程度的控制和限制弧斑的运动。由于工具镀膜持续时间较长，对膜层的性能要求较高，工业应用的离子镀弧源应具备以下几点特性：(1)放电稳定，不经常灭弧；(2)弧斑运动约束合理，不跑弧；(3)靶材利用率高；(4)弧斑细腻，放电功率密度小，大颗粒少；(5)等离子体密度以及离化率高，向工件输运的等离子体通量足够。

标签：离子源电源