磁控溅射是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）的一种,磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。 　　…

　　高精度真空镀膜装置，抽真空装置包括真空泵和真空压力传感器，真空压力传感器设置于中央真空室内；新型高精度真空镀膜装置提高了镀膜厚度控制精度，提高了产品加工工艺的重复性。 　　真空镀膜是一种由物理…

“磷酸铁锂电池”，可以支持大电流充电，配上大电流输出的充电器就凑出这么个秒冲的产品了。 　　专利也只查到一个201410693354.9，虽然是发明专利，但是P的价值，业内非常通用的电路设计，居然…

离子镀是真空室中，利用气体放电或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质粒子轰击作用的同时，将蒸发物或反应物沉积在基片上。离子镀把 辉光放电现象、 等离子体技术和真空蒸发三者有机结合起来，不仅能明…

　　磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电场交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅…

　　离子源：气体放电、电子束对气体原子(或分子)的碰撞，带电粒子束使工作物质溅射以及表面电离过程都能产生离子，并被引出成束。根据不同的使用条件和用途，已研制出多种类型的离子源。使用较广泛的有弧放电离…

　　电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。…