真空离子镀膜设备的构造有哪些要求

      真空离子镀膜设备是通过对热量以及来自等离子体的能量的利用，在真空环境中将金属蒸发，使其与反应性气体结合，然后将其用于轰击基材，终成膜。比之传统的浸泡镀膜，它有优越的耐磨性和粘附性。

　　对于压力在10??Pa~10??Pa范围内的真空离子镀膜设备的设计结构有以下要求：

　　1、电阻值。根据GB/T 11164一99标准中的规定，来决定真空室所接不同电位间的绝缘电阻值的大小。

　　2、离子轰击电源。离子镀膜机通常具有基材负偏压和离子轰击电源，离子轰击电源应具备将非正常放电有效抑制的功能，以达到稳定的工作状态。

　　3、基材架。基材架与真空室体之间应有绝缘设计，基材架的设计要考虑基材镀制的膜层均匀问题。

　　4、加热系统。加热系统需要合理的布置，加热器结构布局要考虑到基材的温升均匀问题。

　　5、沉积源。设计离子镀沉积源要充分考虑镀膜过程中的离化率问题，将离化率尽可能地提高，同时提高了靶材利用率。沉积源的功率要合理匹配，沉积源在真空室体的位置同样需要合理的布置。

　　6、观察窗结构。真空镀膜室设有观察窗，在此观察窗上设置挡板。要求观察窗可观察到沉积源以及其他关键部位的工作状态。

　　7、蒸汽与油的捕集。若设备使用的抽气系统是以扩散泵为主泵，则要合理设置油蒸气捕集阱。

　　8、屏蔽与测量装置。真空测量规管安装于低真空和高真空管道上及真空镀膜室上，可分别各部位的真空度进行测量。若电场干扰了测量，应安装电场屏蔽装置于测量口处，用以阻截该电场。

　　9、密封装置的结构。根据GB/T 6070标准中的规定，来决定设备中的真空管道、密封圈、密封法兰等装置的结构型式。

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